如今EDI超純水設備已廣泛應用到生產半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業。芯片行業在我國才剛剛起步，在未來有著廣闊的發展空間，接下來的10年將是我國芯片行業發展的機遇期，而應用優質超純水設備才能夠保證芯片行業的水質符合標準，增加元件的成品率。

　　超純水在生產電子芯片的過程中必不可少。超純水設備是芯片生產中的重要一環，隨著芯片的精密度越來越高，生產環節對于水質的要求也越來越高，為了保證生產出超大規模的集成電路除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外，超純水也是其中重要的因素之一。

　　由于現代工業技術的發展，對水質要求的日益嚴格，純水制備技術相應地迅速發展起來，成為工業用水中應用廣泛的一個新門類。水質指標接近理論純水稱為“超純水”，集中反映在電阻率、微粒、硅、溶解氣體、有機物、微生物等六個方面，其中電阻率達18MΩ·cm (25℃)，即水的純度為99.99999%，微量電解質含量10～20μg/L，粒徑為0.2μm-1μm的微粒，含量小于130個/mL，活的細菌，微生物0.01個/mL左右，各項水質指標基本達到電子級EW-1級水質標準。

　　芯片行業制備超純水的傳統工藝是采用陰陽樹脂交換設備，該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。隨著膜分離技術的不斷成熟，常采用反滲透工藝，或是采用反滲透后再經過離子交換混床、拋光混床或EDI超純水設備工藝來制取超純水，保證出水水質符合行業標準，滿足芯片行業用水需求。

　　EDI超純水設備還具有占地面積小，總投資少，運行環保等優點。隨著技術的不斷提高，其應用領域也越來越多，在電廠化學水處理方面、食品、飲料、飲用水的制備、海水苦咸水的淡化等方面都有著重要的應用。