無論多么先進龐大的設備，其數據信息都保存在小小的芯片上。芯片制造主要分為三大環節：晶圓加工制造、芯片前期加工、芯片后期封裝。其中技術難度大、核心的是芯片前期加工這個環節，分為上百道制程，每道制程都有相應的裝備。在這些裝備里面，技術難度大的就是光刻技術。

　　芯片加工過程中需要使用水進行處理，該水質的要求較高，不能含有任何離子雜質。半導體行業用超純水設備采用先進的制水技術，有效去除水中雜質，保證設備的出水水質。萊特萊德采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝：反滲透系統利用反向滲透原理，主要除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等。降低水質的離子含量。EDI是一種將離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術，無需酸堿再生，是一種新型的脫鹽方式。EDI無需再生化學品的再生，運行成本低，EDI超純水系統的自動化程度很高，連續工作，出水水質好且穩定，出水電阻率≥15MΩ·CM。拋光混床用于高純度的水處理系統中的終端精制器所設計，制造生產的半導體級混床離子交換樹脂，能夠將水中的離子含量降到PPB級別，出水電阻率可達18.2MΩ·CM。

　　萊特萊德憑借多年項目經驗，根據客戶原水水質報告、現場實地工況，用水點日常需求，為客戶量身定制專屬工業電子超純水系統。萊特萊德憑借多年研發設計實力，在保證出水達標的同時，考量日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節，真正實現量身定制。