隨著光學領域對水質要求的不斷提高，超純水的純度已成為影響光學器件質量、收率和成本的重要因素之一。可以說，超純水設備的性能直接影響超純水的質量。

　　在晶體管和集成電路的生產中，超純水的主要用途包括清洗硅片，少量用于制備藥液、氧化硅的水蒸氣源、一些設備的冷卻水以及電鍍溶液的制備，集成電路的質量和收率息息相關。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜的耐電壓性能惡化，重金屬(AU、Ag、Cu等)會降低PN結的電壓電阻，III類元素(B、Al、GA等)會破壞n型半導體的特性，V族元素(P、AS、Sb等)會破壞P型半導體的特性。細菌在水中(約為灰分的20-50%)對磷進行高溫炭化，可使局部p型硅變為n型硅，導致器件性能下降。如果水顆粒(包括細菌)吸附在硅片表面，會導致短路或性能下降。

　　傳統的超純水處理工藝為單級/雙級反滲透設備+混床。其缺點是需要再生，不能連續產水，不僅效率低，而且浪費資源。萊特萊德經過多年實踐，同時結合膜分離技術，采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合的工藝來制取超純水。與傳統工藝相比，該工藝具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合行業用水標準。

　　萊特萊德超純水設備除了應用在光學領域外，在電子、電力、造紙、日化等領域都有著廣泛的應用，具有廣闊的應用前景。萊特萊德專注電子超純水領域，是集研發設計、設備制造、工程施工、運營維護為一體的環保解決方案服務商。